半導體用鉻靶材

牌號：鉻靶 

尺寸：100*50 100*40 95*45 95*40 80*45 672*127*12 70*7*1135等。

鉻靶是用先進的熱等靜壓（HIP）工藝生產而成，靶材致密度高（密度＞7.17g/cm³），成分均勻，晶粒細小，使用壽命長。

凱澤金屬生產的鉻靶度99.95%，各種復雜形狀的鉻靶都可以加工。

根據圖紙加工供應鉻靶，鍍鉻，真空鍍膜，鉻靶，濺射鍍膜，真空鍍鉻。