高純鉻靶

產品名稱：鈦靶材、鈦多弧靶, 鈦靶塊，鈦塊牌號：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2執行標準：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂... 【詳情】

名稱：鉻靶塊牌號：Gr用途：鉻靶塊用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

產品名稱：鉻靶材、鉻多弧靶、 鉻靶塊、鉻塊牌號：Gr用途：鉻靶用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

名稱：鉻靶材、鉻多弧靶、鉻平面靶、鉻旋轉靶、鉻塊牌號：Gr用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

產品名稱：鋯靶材、鋯多弧靶、鋯平面靶、鋯旋轉靶牌號：Zr60702、Zr60705執行標準：GB/T8769-2010用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】