鍍膜用鉻靶材

牌號：鉻靶 尺寸：100*50 100*40 95*45 95*40 80*45 672*127*12 70*7*1135等。鉻靶是用先進的熱等靜壓（HIP）工藝生產而成，靶材致密度高（密度＞7.17g/cm3），成分均勻，晶粒細小，使用壽命長。... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加工后的產品，具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加工后的產品，具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】

產品名稱：鎳靶材、鎳旋轉靶，鎳平面靶，鎳多弧靶牌號：N6, N4用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業等。... 【詳情】

產品名稱：高純鋁靶材高純鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加工后的產品，具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。1、用途適用... 【詳情】

牌號：鉻靶 尺寸：100*50 100*40 95*45 95*40 80*45 672*127*12 70*7*1135等。鉻靶是用先進的熱等靜壓（HIP）工藝生產而成，靶材致密度高（密度＞7.17g/cm3），成分均勻，晶粒細小，使用壽命長。... 【詳情】