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        用于鉻靶材的C/Cr鍍層特點

        發(fā)布時間:2019-12-09 16:34:20 瀏覽次數(shù) :

        C/Cr鍍層是目前研究較多可在很多領(lǐng)域替代電鍍硬鉻的鍍層。這是因為碳元素的加入可與鉻形成多種碳化物,鍍層表現(xiàn)出高的硬度,在高溫作用下,沉積過程中未形成碳化物的碳可進一步與鉻元素反應(yīng),生成更多鉻碳化合物,有效地提高C/Cr鍍層的高溫硬度。Wang等人的研究結(jié)果表明,與CrN及電鍍硬鉻相比,磁控濺射C/Cr鍍層與熔融塑料形成更小的接觸角,擁有更小的表面張力,更有利于模具的脫膜和清理,從而提高生產(chǎn)效率,因此C/Cr鍍層是一種優(yōu)異的模具保護材料。

        鉻和碳可以化合形成多種碳化物,C在Cr中固溶度很低,隨著C濃度的增加,依次形成三種不同的穩(wěn)定相Cr-C化合物:立方Cr23C6、正交Cr7C3和1Cr3C2。這些碳化物所具有的 特點是:在金屬碳化物中,Cr3C2抗氧化能力最強,在空氣中1100~1400。C才開始顯著氧化;在高溫條件下,仍能保持相當高的硬度。碳化物高硬度及化學(xué)穩(wěn)定性,被廣泛地應(yīng)用于耐磨,耐蝕環(huán)境中。碳化鉻鍍層除了上述3種平衡碳化物和非晶碳外,Be謝logua等采用透射電鏡觀測到亞穩(wěn)NaCI型(B1)面心立方CrCl.X相形成于離子鍍制備的碳化鉻鍍層

        中,而經(jīng)過退火處理后轉(zhuǎn)變?yōu)榉€(wěn)定的Cr3C2結(jié)構(gòu)。

        靶材

        Cr3C2呈金屬色,密度為6.689/cm3,熔點為1810。C。Cr3C2晶體強度大,硬度高,具有很好的耐磨耐蝕性。用NiCr-Cr3C2噴涂電廠鍋爐爐管,管壁磨損量降低50倍,在稀硫酸溶液中是1Crl8Ni9Ti耐蝕性的30倍,特別適合于制作精密的標準塊規(guī),還可用于制造結(jié)構(gòu)部件,諸如軸承、密封墊、閥門密封等。

        nc.CrCx/a-C(:H)納米復(fù)合鍍層是在Cr摻雜非晶碳鍍層的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的,旨在降低鍍層殘余應(yīng)力,提高鍍層韌性和附著性能,大部分采用反應(yīng)濺射方法制備。Gassner等系統(tǒng)研究了反應(yīng)磁控濺射制備nc.CrC。/a.C:H納米復(fù)合鍍層結(jié)構(gòu)和性能的關(guān)系,基體偏壓的增加引起離子轟擊能量增強,使結(jié)晶度增加,晶粒尺寸增大,a-C:H剖k@sp3鍵增多,進而改變鍍層的硬度和耐磨性能。當鍍層中不含a.c:H時,納米復(fù)合鍍層具有高的磨損率和摩擦系數(shù),而當鍍層中a.C:H相的含量為64%時,納米晶CrCx的晶粒尺寸為3.0±0.8nm,且具有相對高的sp2鍵,鍍層具有最低摩擦系數(shù)和磨損率,分別為0.12和1.16×10’15m3/Nm。

        Groudeva.zotova等通過控制鉻靶和石墨靶的濺射功率,沉積了C:Cr原子比為0.08.2.40的碳化鉻鍍層,隨著碳含量增加,觀測到如下相變過程:a-Cr(C)匿]溶體--+a-Cr(C)固溶體+Cr23C6_含鉻非晶碳a.C(Cr)+亞穩(wěn)碳化物_CrC。/a:C納米復(fù)合結(jié)構(gòu),具有前兩種結(jié)構(gòu)的鍍層硬度最高,耐磨性能最佳,同時具有較低的電阻率。Hou等168j同樣在磁控共濺射沉積Cr7C3中觀測到基體偏壓對鍍層的硬度和電阻率具有顯著影響,隨著基體偏壓由OV提高到.200V,鍍層硬度從15.7GPa升高至20.4GPa,而電阻率則由826x10。6Q.cm降低至472x10‘6Q.cm。Paul等[691研究了濺射功率對射頻和直流濺射Cr3C2靶沉積的碳化鉻鍍層結(jié)構(gòu)和性能的影響,結(jié)果表明,大部分鍍層具有類非晶結(jié)構(gòu),射頻濺射沉積的碳化鉻鍍層晶粒尺寸約為40nm,略小于直流濺射沉積,而隨著射頻濺射功率從200W升高至500W,鍍層硬度由4.7GPa線性提高至7.2GPa。Marechal等通過控制濺射工作氣壓和基體偏壓,利用磁控濺射Cr3C2靶制備得到Cr3C2鍍層,研究表明,高基體偏壓和低工作氣壓條件下沉積的鍍層最致密,而電阻率主要受氧濃度影響,不含氧的條件下,碳化鉻鍍層電阻率為120×10曲Q.cm,約為體材料的一半。

        碳化鉻鍍層的硬度雖低于氮化鈦鍍層,但具有更好的韌性、耐磨性、抗高溫氧化性和耐腐性,更高的膜基結(jié)合強度,己被廣泛應(yīng)用作為刀具和模具的防護涂層以及機械 部件防腐涂層和裝飾用涂層。

        目前,常用于C/Cr鍍層制備方法有:電鍍法、熱反應(yīng)擴散法(TRD.thermal reactivediffusion)熱噴涂技術(shù),陰極弧鍍反應(yīng)濺射法。物理氣相沉積Cr-C具有良好的硬 度、韌性和化學(xué)穩(wěn)定性。

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