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        鈦靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域概述

        發(fā)布時(shí)間:2021-03-09 05:50:19 瀏覽次數(shù) :

        濺射鈦靶材與金屬鈦都是由鈦元素組成的,所以材料基本相同,但它倆的區(qū)別主要在于金屬鈦可以作為原材料生產(chǎn)鈦靶材,而鈦靶材只能是一種被制造出來(lái)的產(chǎn)品。金屬鈦可通過(guò)幾種方法制成鈦濺射靶材。鈦靶材在很多行業(yè)領(lǐng)域都能廣泛的應(yīng)用,以下由凱澤金屬整理,結(jié)合多年鈦靶材的深加工、銷售經(jīng)驗(yàn)以及相關(guān)資料,分享如下:

        一、非集成電路和集成電路行業(yè)

        非集成電路和集成電路對(duì)濺射鈦靶材的要求是不同的。一般而言,集成電路對(duì)涂層材料有很高的要求,例如更高的純度,更小的晶粒尺寸以及更精確的尺寸精度。但它揭示了不同行業(yè)對(duì)鈦靶材的要求不同。集成電路鈦靶的純度要求主要是大于99.995%,高于非集成電路中所用的純度。

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        二、平板顯示器行業(yè)

        平板顯示器中使用的鈦靶材包括液晶顯示器,等離子顯示器,電致發(fā)光顯示器和場(chǎng)發(fā)射顯示器。濺射鍍膜技術(shù)通常用于沉積平板顯示器的薄膜。Al,Cu,Ti和Mo是平板顯示器的主要金屬濺射靶材。用于平板顯示器的鈦靶材的純度通常需要大于99.9%。

        三、晶圓制作及芯片封裝領(lǐng)域

        鈦靶材可用于晶圓導(dǎo)電阻擋層及封裝金屬布線層制作。其中在晶圓制造環(huán)節(jié),靶材主要用于執(zhí)著晶圓導(dǎo)電層、阻擋層以及金屬柵極,而且在芯片封裝環(huán)節(jié),靶材用來(lái)生成凸點(diǎn)下金屬層、布線層等金屬材料。靶材在晶圓制造及封裝過(guò)程成本占比均約在3%左右,雖然靶材在晶圓制造和芯片封裝領(lǐng)域用量不大,但是由于濺射靶材的品質(zhì)直接影響導(dǎo)電層、阻擋層的均勻程度及性能,進(jìn)而影響芯片傳輸速度及穩(wěn)定性,因此靶材是半導(dǎo)體生產(chǎn)的核心原材料之一。

        在晶圓制作環(huán)節(jié),半導(dǎo)體用濺射靶材主要用于晶圓導(dǎo)電層及阻擋層和金屬柵極的制作,主要用到鋁、鈦、銅、鉭等金屬,芯片封裝用金屬靶材于晶圓制作類似,主要有銅、鋁、鈦等。其中,晶圓制作導(dǎo)電層使用金屬靶材主要有鋁靶和銅靶,阻擋層使用金屬靶材主要有鉭靶和鈦靶,阻擋層主要有兩個(gè)作用,一方面是阻隔與絕緣,防止導(dǎo)電層金屬擴(kuò)散到晶圓主體材料硅中,另一方面作為黏附,用于粘結(jié)金屬和硅材料。一般來(lái)說(shuō),110nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)以上晶圓分別用鋁、鈦?zhàn)鳛閷?dǎo)線及阻擋層的薄膜材料,110nm以下晶圓分別使用銅,鉭材料作為導(dǎo)線及阻擋層的薄膜材料,隨著晶圓制程的縮小,未來(lái)對(duì)銅靶、鉭靶以及制作金屬柵極用鈦靶的用量占比將不斷提升。

        四、生物行業(yè)

        鈦是無(wú)磁性金屬,在很強(qiáng)的磁場(chǎng)中也不會(huì)被磁化,且與人體有良好的相容性,可以用來(lái)制造人體植入器件。一般醫(yī)用鈦材并沒(méi)有達(dá)到高純鈦的級(jí)別,但是考慮到鈦中不純物的溶出問(wèn)題,植入件用鈦的純度應(yīng)盡可能的高。文獻(xiàn)還提到,高純鈦絲可用做生物捆扎材料。此外,內(nèi)埋導(dǎo)管的鈦制注入式針頭也達(dá)到了高純鈦級(jí)別。

        五、裝飾材料行業(yè)

        高純鈦靶材具有優(yōu)異的耐大氣腐蝕性能,在大氣中長(zhǎng)期使用也不變色,保證鈦原有的本色。因此高純度鈦還可以用做建筑裝飾材料。此外近年來(lái)部分裝飾品以及部分佩戴物,如手鏈、手表及眼鏡架等用鈦制作利用了鈦耐腐蝕、不變色、能長(zhǎng)久保持良好的光澤以及與人體皮膚接觸不致敏等特性。某些裝飾品用鈦的純度已經(jīng)達(dá)到5N級(jí)別。

        六、吸氣材料行業(yè)

        鈦?zhàn)鳛橐环N化學(xué)性質(zhì)非?;顫姷慕饘?,在高溫下可與許多元素和化合物發(fā)生反應(yīng)。高純鈦靶材對(duì)活性氣體(如O2、N2、CO、CO2、650°C以上的水蒸氣)的吸附性很強(qiáng),蒸發(fā)在泵壁上的Ti膜可形成一一個(gè)高吸附能力的表面,這一性質(zhì)使得Ti在超高真空抽氣系統(tǒng)中作為吸氣劑而得到廣泛的應(yīng)用。如用在升華泵、濺射離子泵等,可使濺射離子泵的極限工作壓強(qiáng)低至10-9Pa。

        鈦靶材的應(yīng)用行業(yè)領(lǐng)域有非集成電路和集成電路,平板顯示器行業(yè),晶圓制作及芯片封裝領(lǐng)域,生物行業(yè)、裝飾行業(yè)及吸氣材料行業(yè),每個(gè)行業(yè)對(duì)鈦靶材的要求都不同,所以我們應(yīng)用在不同行業(yè)的話,選購(gòu)鈦靶材時(shí)需要知道產(chǎn)品的規(guī)格,這樣靶材的生產(chǎn)廠家也會(huì)根據(jù)規(guī)格來(lái)提供制作鈦靶材。凱澤金屬專注生產(chǎn)各種濺射靶材,鉻靶、鎳靶、鋯靶、鋁靶材等的深加工,產(chǎn)品純度高,還可進(jìn)行有關(guān)使用方面的技術(shù)指導(dǎo),如果您有需要,歡迎聯(lián)系凱澤金屬詳詢。

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