大家都知道鈦鎳鋯鉻濺射靶材的規格很多，而且應用行業也很廣泛，不同行業常用的靶材種類也有所不同，今天我們就隨凱澤金屬一道來了解濺射靶材的行業分類的相關知識吧！
一、濺射靶材的簡介
1、濺射
濺射屬于物理氣相沉積技術的一種，它是利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面的過程。
2、濺射靶材
濺射靶材是在濺射過程中，高速度能的離子束流轟擊的目標材料，它是沉積薄膜的原材料。
二、濺射靶材行業分類
1、半導體用靶材
（1）常用靶材：該行業常用的靶材包含鉭/銅/鈦/鋁/金/鎳/高熔點金屬/鉻等。
（2）用途：主要用于集成電路的關鍵原材料。
（3）性能要求：對于純度、尺寸、集成度等的技術要求最高。
2、平面顯示器用靶材
（1）常用靶材：該行業常用的靶材有鋁/銅/鉬/鎳/鈮/硅/鉻/ITO等。
（2）用途：這里的靶材多用于電視、筆記本的各型大面積膜層。
（3）性能要求：對于純度、大面積、均勻性等技術要求較高。
3、太陽能電池用靶材
（1）常用靶材：太陽能電池常用鋁/銅/鉬/鉻/ITO/AZO/ZnS/Ta等靶材。
（2）用途：主要用于“窗口層”、阻擋層、電極與導電膜等場合。
（3）性能要求：技術要求高，應用范圍比較廣。
4、信息存儲用靶材
（1）常用靶材：信息存儲常用鈷/鎳/鐵合金/鉻/碲/硒/稀土-遷移金屬等。
（2）用途：這里的靶材主要用于光驅與光盤的磁頭、中間層、底層。
（3）性能要求：對于高儲存密度、高傳輸速度的要求較高。
5、工具改性用靶材
（1）常用靶材：工具改性常用鈦/鋯/格/鉻鋁合金等靶材。
（2）用途：通常做表面強化用。
（3）性能要求：性能要求較高，使用壽命長。
6、電子器件用靶材
（1）常用靶材：電子器件常用鋁合金/硅化物靶材。
（2）用途：一般用于薄膜電阻與電容。
（3）性能要求：尺寸小、穩定性、電阻溫度系數小。
7、其他
（1）常用靶材：其他常用靶材包含氧化物/石英/硅/鈦/鉭等。
（2）用途：主要用于裝飾鍍膜與玻璃鍍膜。
（3）性能要求：這種靶材對于技術要求一般。
以上是濺射靶材介紹及行業分類的全部內容，經以上介紹可知靶材的種類多樣，不同材質的靶材所適合的行業都有所不同，而且對于性能要求方面也是不同的。寶雞市凱澤金屬材料有限公司生產的靶材規格多樣、質量有保證、適用范圍廣，如果有需要，歡迎大家隨時致電或留言進行咨詢。
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