TA1鈦板靶

1、定義TA2純鈦靶是以中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn) GB/T 3620.1 中的 TA2（工業(yè)純鈦） 為基礎(chǔ)材料，通過特殊提純工藝加工而成的濺射靶材。TA2鈦的純度通常為 99.2%-99.5%，但通過二次熔煉和精煉可... 【詳情】

1、定義TA1純鈦靶管是以中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn) GB/T 3620.1 中的 TA1（工業(yè)純鈦） 為基礎(chǔ)材料，通過二次提純和精密加工制成的空心圓柱形濺射靶材。其純度通過特殊工藝提升 99.9%（3N級(jí)） 以上，... 【詳情】

鈦靶板（平面靶）憑借其大面積成膜能力與高純度特性，成為半導(dǎo)體、光學(xué)及工業(yè)涂層領(lǐng)域的核心材料。相較于鈦管靶，其邊緣損耗較高但兼容性更廣；與鈦合金靶相比，純度更高但需依賴復(fù)合背板提升散熱效率。選購(gòu)時(shí)需嚴(yán)格把控純度、微觀結(jié)構(gòu)及供應(yīng)商工藝能力，使用中需優(yōu)化濺射參數(shù)與維護(hù)流程，以平衡鍍膜質(zhì)量與成本效益... 【詳情】

TA1鈦靶管憑借其低成本、易加工和良好的耐腐蝕性，成為工業(yè)防腐與裝飾鍍層的經(jīng)濟(jì)型選擇。相較于高純鈦靶管，其薄膜均勻性和耐溫性稍遜，但成本優(yōu)勢(shì)顯著；與TA2鈦靶管相比，雜質(zhì)控制更優(yōu)，適合對(duì)鍍層質(zhì)量要求稍高的場(chǎng)景。選購(gòu)時(shí)需重點(diǎn)關(guān)注Fe、O雜質(zhì)含量及幾何精度，應(yīng)用中需控制濺射參數(shù)以避免膜層缺陷... 【詳情】

異形鈦靶材通過定制化設(shè)計(jì)解決了復(fù)雜結(jié)構(gòu)鍍膜的行業(yè)痛點(diǎn)，盡管初期成本與周期較高，但其在材料利用率、鍍膜精度上的優(yōu)勢(shì)顯著。選購(gòu)時(shí)需緊密協(xié)同設(shè)計(jì)與工藝團(tuán)隊(duì)，優(yōu)先選擇具備增材制造與精密加工能力的供應(yīng)商，并通過小批量試制驗(yàn)證可行性。在半導(dǎo)體3D集成、航空航天高溫涂層等前沿領(lǐng)域... 【詳情】

1、高純鈦靶純鈦靶指純度≥ 99.95%（3N5級(jí)） 的鈦濺射靶材，雜質(zhì)總量≤ 500 ppm，關(guān)鍵元素（Fe、O、C等）需精確控制。根據(jù)應(yīng)用需求，純度可提升至 99.999%（5N級(jí)），主要用于對(duì)薄膜性能要求嚴(yán)苛... 【詳情】