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        裝飾鍍層用鈦多弧靶

        材質:TA1(Grade1)

        執行標準: GB/T 3620.1、GB/T 13810、JB/T 8554、HB/Z 20019、ASTM B348、VDI 3198(

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        發布日期: 2022-09-18 21:19:07

        全國熱線: 0917-3376170

        詳細描述 / Detailed description

        1、定義

        TA1鈦多弧靶是以中國國家標準 GB/T 3620.1 中的 TA1(工業純鈦) 為原材料,專為 多弧離子鍍(Arc Ion Plating, AIP) 工藝設計的靶材。其通過電弧放電蒸發鈦金屬,產生高離化率的鈦等離子體,在基材表面形成致密、高結合力的功能性薄膜(如TiN、TiAlN等)。TA1鈦純度為 99.5%(Fe≤0.20%、O≤0.25%),適用于對成本敏感且性能要求適中的工業涂層場景。

        2、性能特點

        電弧特性:

        電弧穩定性高,靶面燒蝕均勻,避免液滴(Droplet)過多導致的薄膜缺陷。

        離化率≥70%,薄膜致密度高(孔隙率≤0.5%)。

        材料特性:

        耐腐蝕性:在5% HCl溶液中腐蝕速率≤0.02 mm/年。

        機械性能:抗拉強度≥345 MPa,硬度HV 120-180,適配高能電弧沖擊。

        成本優勢:

        原材料成本低(¥400-600/kg),靶材利用率達 80-90%(多弧靶可全表面消耗)。

        3、材質與制造工藝

        材質:

        基材:TA1工業純鈦(GB/T 3620.1),純度≥99.5%,雜質以Fe、O為主。

        復合結構:部分靶材背部復合銅/鋼背板(增強散熱與機械支撐)。

        制造工藝:

        原料成型:

        真空鑄造:熔煉鈦錠→澆鑄成圓柱或塊狀坯料。

        熱鍛(950-1000°C):細化晶粒,提升靶材致密度。

        精密加工:

        數控車床/銑床加工成目標形狀(常見為圓柱或矩形塊)。

        表面噴砂處理(Ra 3-5 μm),增強電弧觸發穩定性。

        后處理:

        酸洗(HF:HNO ?=1:3)去除表面氧化層→超聲波清洗→真空封裝。

        4、執行標準

        標準類型具體標準
        國內標準GB/T 3620.1(TA1工業純鈦)、GB/T 13810(外科植入物用鈦材參考)
        行業規范JB/T 8554(工具涂層技術條件)、HB/Z 20019(航空鍍層性能要求)
        國際參考ASTM B348(鈦及鈦合金棒材)、VDI 3198(涂層結合強度與硬度測試)

        5、應用領域

        工具涂層:

        切削刀具的 TiN涂層(硬度2000-2200 HV,壽命提升2-3倍)。

        沖壓模具的 TiAlN涂層(耐溫600°C,減少熱疲勞裂紋)。

        工業防腐:

        化工閥門的 純鈦鍍層(耐酸堿腐蝕,替代哈氏合金)。

        海洋設備螺栓的 CrTiN復合涂層(耐鹽霧≥1000小時)。

        裝飾鍍層:

        衛浴五金的 氮化鈦仿金鍍層(顏色均勻,成本低于PVD裝飾工藝)。

        智能設備外殼的 TiC黑色涂層(防指紋、抗刮擦)。

        6、與其他類型鈦靶的異同對比

        特性TA1鈦多弧靶TA1磁控濺射靶高純鈦多弧靶(4N級)鈦合金多弧靶(Ti6Al4V)
        工藝適配性多弧離子鍍(高離化率)磁控濺射(低離化率)多弧離子鍍(低雜質干擾)多弧離子鍍(需合金元素匹配)
        薄膜質量致密但液滴較多(需后處理)均勻無液滴(低缺陷率)高純度、低液滴高硬度但易氧化(Al/V偏析)
        靶材利用率80-90%(全表面消耗)30-50%(邊緣損耗高)80-90%70-85%
        成本低(¥400-600/kg)中(¥600-1000/kg)高(¥2000-4000/kg)中高(¥1000-1500/kg)
        典型應用工具/防腐涂層、裝飾鍍層半導體/光學鍍膜高端工具涂層、醫療植入鍍層航空耐磨部件

        7、選購方法與注意事項

        選購方法

        雜質與成分檢測:

        要求供應商提供 OES(原子發射光譜)報告,確認Fe≤0.20%、O≤0.25%。

        若用于氮化物涂層,需額外檢測C、N含量(C≤0.10%,N≤0.05%)。

        微觀結構驗證:

        金相檢測:晶粒尺寸≤150 μm,無鑄造氣孔(氣孔率≤1%)。

        幾何適配性:

        靶材尺寸需匹配多弧設備陰極(如直徑Φ100-200 mm,厚度20-50 mm)。

        供應商評估:

        優先選擇具備 真空鑄造+熱鍛工藝 的廠商,確保靶材致密性與電弧穩定性。

        注意事項

        安裝與使用:

        安裝前用 砂紙(600#)打磨靶面,去除氧化層并粗糙化表面(增強電弧觸發)。

        初始電弧電流建議階梯式增加(如50 A→100 A→150 A,間隔5分鐘)。

        工藝優化:

        TiN涂層:氮氣流量占比 30-50%,基片偏壓 -100至-200 V,溫度 200-400°C。

        純鈦鍍層:氬氣純度≥99.99%,電弧電流≤150 A(避免液滴過多)。

        維護與報廢:

        定期清理靶面殘留液滴(每20小時工作后機械拋光)。

        靶材厚度剩余 <10% 時需更換,報廢靶材可回收熔煉為低端鈦錠。

        TA1鈦多弧靶憑借其高利用率、低成本及適配多弧工藝的特性,成為工業工具涂層與防腐鍍層的經濟型選擇。相較于磁控濺射靶,其薄膜更致密但需后處理液滴;相較于高純鈦靶,雖雜質較多但成本優勢顯著。選購時需重點關注雜質含量與晶粒均勻性,使用中需優化電弧參數與基片偏壓。對于高端精密涂層(如醫療植入物),建議選用4N級高純鈦靶;而在工具強化、防腐及裝飾領域,TA1鈦多弧靶可實現性能與成本的最佳平衡。

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