以下是對鉻靶材在顯示面板、光伏電池、裝飾鍍膜及半導體領域應用的深度剖析，結合材料特性、工藝進展與產(chǎn)業(yè)趨勢進行系統(tǒng)闡述：一、鉻靶材核心特性與分類體系1. 材料特性與牌號...

凱澤金屬以表格和分類形式，從應用領域、性能要求、鍍層特性等維度，詳細對比鈦靶材與鉻靶材的應用：一、核心應用領域?qū)Ρ葢妙I域鈦靶材鉻靶材半導體制造銅互連阻擋層（Ti/TiN）、導...

鉻靶材作為一種高性能材料，近年來在多個尖端科技領域展現(xiàn)出深度的應用潛力。以下凱澤金屬從技術原理、產(chǎn)業(yè)化進程和未來趨勢三個維度，詳細解析其最新應用場景：一、半導體制造領...

一、產(chǎn)品名稱：鈦鍛件、鈦合金鍛件、鈦合金餅1、規(guī)格及標準產(chǎn)品名稱規(guī)格（mm）牌號執(zhí)行標準外徑內(nèi)徑截面高度環(huán)材厚度鈦餅150~300 35~140 TA1、TA2、 TA5、TA6、TA9、TA10、TA15、...

磁控濺射鍍膜以其高速、低溫、低損傷等特點，可被用于濺射半導體、金屬、絕緣體等幾乎任何材料。因其具有制備簡單、附著力強、鍍膜面積大及易于控制等優(yōu)點。廣泛應用于電子行...

99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好的特點。純度：99.8%Φ160*12Φ128*15Φ105*16Φ100*32Φ64*32741*191*181040*191*181701*132*12矩形靶材鈦鋁靶長可達1...

一、產(chǎn)品名稱：鈦閥門、鈦合金加工件1、規(guī)格、牌號產(chǎn)品名稱規(guī)格（mm）狀態(tài)牌 號執(zhí)行標準鈦閥門外徑(100～800mm) 內(nèi)徑(40～100mm)×高度 按圖紙/客戶要求加工熱鍛、機械加工TA1、TA2、...

一、產(chǎn)品名稱：鈦鍛件、鈦方塊、鈦塊1、牌號、規(guī)格、狀態(tài)牌號：TA1、TA7、TA9、TA10、TA15、TA18、TA19、TC4、TC6、TC11、TC18、TB6規(guī)格：φ50--1200mm×L 30----600mm交貨狀態(tài)：退...

一、產(chǎn)品名稱：鈦閥門、鈦合金加工件1、規(guī)格、牌號產(chǎn)品名稱規(guī)格（mm）狀態(tài)牌 號執(zhí)行標準鈦閥門外徑(100～800mm) 內(nèi)徑(40～100mm)×高度 按圖紙/客戶要求加工熱鍛、機械加工TA1、TA2、...

99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好的特點。純度：99.8%Φ160*12Φ128*15Φ105*16Φ100*32Φ64*32741*191*181040*191*181701*132*12矩形靶材鈦鋁靶長可達1...

高純金屬鉻是一種具有重要應用價值的金屬材料，其物理化學特性決定了它在各個領域中的應用。本文將介紹鉻靶材、鉻靶管等高純金屬鉻的特性及其在電子、航空航天等領域中的應用...

二、產(chǎn)品名稱：鈦鍛件、TC4鈦鍛件、鈦合金鍛件1、牌號、規(guī)格、狀態(tài)牌號：TA1、TA7、TA9、TA10、TA15、TA18、TA19、TC4、TC6、TC11、TC18、TB6規(guī)格：φ50--1200mm×L 30----600mm...

產(chǎn)品名稱：鉻靶材、鉻靶塊、鉻圓靶產(chǎn)地：寶雞銘含量 : 99.5%雜質(zhì)含量： 0.5%重量 ：不等( KG/塊）用途：鉻靶用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，...

99.8%鈦鋁靶特性鈦鋁靶具有純度高，粒度細，易燒結，成型性好的特點。純度：99.8%Φ160*12Φ128*15Φ105*16Φ100*32Φ64*32741*191*181040*191*181701*132*12矩形靶材鈦鋁靶長可達1...

一、產(chǎn)品名稱：純鈦絲、TA1鈦絲1、分類：鈦絲分為：鈦絲、鈦合金絲、純鈦眼鏡絲、鈦直絲、純鈦絲、鈦焊絲、鈦掛具絲、鈦盤絲、鈦光亮絲、醫(yī)用鈦絲、鈦鎳合金絲。2、規(guī)格：A、鈦絲規(guī)...

一、產(chǎn)品名稱：鉻靶材、鉻靶塊 凱澤金屬鉻靶材規(guī)格：圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm）管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內(nèi)直徑φ2.0mm-280mm）材料純度：>99....

磁控濺射鍍膜以其高速、低溫、低損傷等特點，可被用于濺射半導體、金屬、絕緣體等幾乎任何材料。因其具有制備簡單、附著力強、鍍膜面積大及易于控制等優(yōu)點，廣泛應用于電子行業(yè)...

一、產(chǎn)品名稱：鉻靶材、鉻靶塊 凱澤金屬鉻靶材規(guī)格：圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm）管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內(nèi)直徑φ2.0mm-280mm）材料純度：>99....

一、產(chǎn)品名稱：鉻靶材、鉻靶塊 凱澤金屬鉻靶材規(guī)格：圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm）管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內(nèi)直徑φ2.0mm-280mm）材料純度：>99....

高純?yōu)R射鉻靶材是近年來新研制和開發(fā)的一種靶材，先后在集成電路、液晶顯示屏、真空鍍膜及電子控制器件等多個領域得到了廣泛的應用，市場規(guī)模不斷擴大。鉻靶材可以采用多種方法...

一、產(chǎn)品名稱：鉻靶材、鉻靶塊 凱澤金屬鉻靶材規(guī)格：圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm）管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內(nèi)直徑φ2.0mm-280mm）材料純度：>99....

二、產(chǎn)品名稱：鈦鍛件、TC4鈦鍛件、鈦合金鍛件1、牌號、規(guī)格、狀態(tài)牌號：TA1、TA7、TA9、TA10、TA15、TA18、TA19、TC4、TC6、TC11、TC18、TB6規(guī)格：φ50--1200mm×L 30----600mm...

一、產(chǎn)品名稱：鉻靶材、鉻靶塊 凱澤金屬鉻靶材規(guī)格：圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm）管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內(nèi)直徑φ2.0mm-280mm）材料純度：>99....

二、產(chǎn)品名稱：鈦鍛件、TC4鈦鍛件、鈦合金鍛件1、牌號、規(guī)格、狀態(tài)牌號：TA1、TA7、TA9、TA10、TA15、TA18、TA19、TC4、TC6、TC11、TC18、TB6規(guī)格：φ50--1200mm×L 30----600mm...

一、產(chǎn)品名稱：鋯靶、鋯靶材、鋯靶塊 凱澤金屬生產(chǎn)的鋯純度達到99.9,密度為6.00,最高使用溫度為2200度,主要運用在熔煉貴金屬,抗熱穩(wěn)定性能良好。 鋯材牌號;(ZR60702 ZR60705...

一、產(chǎn)品名稱：鉻靶材、鉻靶塊 凱澤金屬鉻靶材規(guī)格：圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm）管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內(nèi)直徑φ2.0mm-280mm）材料純度：>99....

磁控濺射鍍膜以其高速、低溫、低損傷等特點，可被用于濺射半導體、金屬、絕緣體等幾乎任何材料。因其具有制備簡單、附著力強、鍍膜面積大及易于控制等優(yōu)點，廣泛應用于電子行業(yè)...

一、產(chǎn)品名稱：鉻靶材、鉻靶塊 凱澤金屬鉻靶材規(guī)格：圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm）管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內(nèi)直徑φ2.0mm-280mm）材料純度：>99....

一、產(chǎn)品名稱：鉻靶材、鉻靶塊 凱澤金屬鉻靶材規(guī)格：圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm）管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內(nèi)直徑φ2.0mm-280mm）材料純度：>99....

產(chǎn)品名稱：鈦法蘭鈦法蘭具有良好的綜合性能,所以它廣泛用于化工,建筑,給水,排水,石油,輕重工業(yè),冷凍,衛(wèi)生,水暖,消防,電力,航天,造船等基礎工程。鈦法蘭生產(chǎn)標準：國標：GB/T9112-...

鉻靶材料的技術發(fā)展趨勢與下游應用行業(yè)薄膜技術的發(fā)展趨勢密切相關。 隨著應用行業(yè)中薄膜產(chǎn)品或組件技術的進步，鉻靶目標技術也應隨之改變。微電子領域：在所有應用行業(yè)中，半導...

產(chǎn)品名稱：高純鉻靶 鉻靶材 鉻靶塊 鉻板靶可定制靶材規(guī)格：圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm）管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內(nèi)直徑φ2.0mm-280mm）材料純...

濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設備在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件...

目前，鉻靶材的制備主要包括特殊的熔融法和粉末冶金法。具體方法，凱澤金屬結合相關資料，整理如下：特殊的熔化方法：將具有一定組成比的合金原料熔化，然后將合金溶液倒入模具中形成鑄...

產(chǎn)品名稱：高純鉻靶 鉻靶材 鉻靶塊 鉻板靶可定制靶材規(guī)格：圓靶（直徑φ1"-φ14"，厚度0.5-15mm）板靶(長<500mm，寬<500mm，高<25mm）管靶（外直徑φ3.0mm-φ300mm,內(nèi)直徑φ2.0mm-280mm）材料純...

凱澤金屬生產(chǎn)的鉻靶材采用先進的熱等靜壓（HIP）工藝生產(chǎn)，產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶、環(huán)形靶和大長徑比整體成形管靶等類型，具有純度和密度可控、晶粒細小均勻、使用壽命長等優(yōu)點。...

產(chǎn)品名稱：高純度旋轉(zhuǎn)鉻靶材 真空濺射鉻靶材產(chǎn) 地：陜西寶雞材 質(zhì)：Cr純 度：99.99%晶 粒 度：<100um規(guī)格：可以按照用戶需要定制。應用領域：主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜,LOW-E玻...

高純鉻靶的目標晶粒尺寸和分布：通常，靶材材料具有多晶結構，并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的數(shù)量級上。對于相同組成的靶材，細粒靶材的濺射速率比粗粒高純度鉻靶材的濺射速率快，而...

靶材在微電子領域、平面顯示器、儲存技術方面應用較為廣泛。目前在我國靶材還是個較新的行業(yè)，從興起至今，在技術和市場方面都取得了進步。為了讓大家能夠更好地了解靶材，靶材的...

名稱：鉻靶材、鉻多弧靶、鉻平面靶、鉻旋轉(zhuǎn)靶、鉻塊牌號：Gr用途：用于半導體分離器件、平面顯示器、儲存器電極薄膜、濺射鍍膜、工件表面涂層，玻璃鍍膜工業(yè)等。...